三位知情人士稱，事件緣由是SK海力士計劃升級位于中國無錫的DRAM和NAND晶圓廠，同時配備荷蘭ASML最新的極紫外(EUV)光刻機，從而成為全球最先進的存儲器制造廠。

繼特朗普游說荷蘭政府阻止ASML向中芯國際出口EUV后，一位白宮高級官員稱，拜登政府仍然專注于阻止中國利用美國和盟國的技術開發(fā)最先進的半導體制造技術。

圖：SK海力士CEO 李錫熙

據兩位了解SK海力士的人士透露，ASML光刻機的進口問題在SK海力士內部引起了足夠的關注，以至于首席執(zhí)行官李錫熙在7月訪問華盛頓期間向美國官員提出了這個問題。

但目前似乎并沒有進展，且從本月SK海力士按要求向美國商務部遞交產能和經營信息來看，前景非常不明朗。SK海力士稱正在盡最大努力應對市場和客戶的需求。

之所以EUV進口問題深受各方關注，首先在于無錫廠對全球電子行業(yè)至關重要。數據顯示，無錫廠的DRAM芯片產量約占整個SK海力士的50%，占到全球總量的15%。

圖：DRAM技術路線（Tech Insights）

同時，一位了解海力士中國的消息人士表示，隨著新工藝生產的存儲芯片在兩到三年內占據更大份額，SK海力士將需要借助EUV來降低平均成本、擴充產能，否則將在下個世代落后于三星和美光。

而不同之處在于，三星和美光已經采購了ASML的EUV機器，但并未在中國工廠部署使用。

而影響此事進展的另一方在于ASML，其發(fā)言人曾表示，該公司遵守所有出口管制法律，并將其視為政府確保國家安全的“有效工具”。

VLSIresearch分析稱，這些規(guī)則（指設備出口限制）可能適用于中國的任何芯片制造業(yè)務，無論是外國的還是國內控制的，“任何在中國安裝EUV工具的人都會為中國提供能力”。