近日韓媒引述ASML財報稱，ASML收到了TWINSCAN EXE:5200的額外訂單，所有當前的EUV客戶都已經(jīng)下單了下一代半導體設備“High-NA”，這其中包括三星和SK海力士。
圖：ASML 最新一代High-NA EUV
據(jù)悉，High-NA EUV設備是表示光的集光能力的鏡頭開口數(shù)（NA）從0.33提高到0.55的設備。與現(xiàn)有EUV設備相比，High-NA EUV設備可以繪制出更細微的半導體電路。因此業(yè)內(nèi)普遍認為，要實現(xiàn)2nm工藝，High-NA設備將起到關(guān)鍵作用，甚至是必要條件。此前英特爾、臺積電都已宣布訂購“High-NA”EUV設備，隨著三星電子和SK海力士的入局，2nm制程技術(shù)的爭奪將更加激烈。據(jù)韓國設備商透露，現(xiàn)款EUV光刻機的訂貨價是2000~3000億韓元（約合10~16億元人民幣），而高NA EUV光刻機的報價翻番到了5000億韓元（約合26億元人民幣）。ASML首席執(zhí)行官Peter Wennink在財報會議上表示，第三季度預訂銷售額約89億歐元，其中High-NA系統(tǒng)等EUV設備銷售額達到38億歐元。
